Es wird beabsichtigt, ein Atomic Layer Deposition System zu erwerben. Zur Verwendung durch mehrere Forschungsgruppen muss das System einen möglichst flexiblen Betrieb zulassen. Standardmäßig soll zunächst der abwechselnde/parallele Betrieb mit Precursoren zur thermischen Abscheidung von Al2O3, TiO2 und ZnO möglich sein, ohne Umbaumaßnahmen beim Wechsel der Precursoren.

Längerfristig ist zusätzlich die Abscheidung von SiO2 (sowie der Einsatz temperaturempfindlicher Substrate) geplant. Das System muss daher, wenn nicht direkt beinhaltet, für eine zukünftige Aufrüstung mit einer remote Plasma- oder Ozon-Quelle, sowie die zusätzlich benötigten Precursoren vorbereitet sein. Das Vakuumsystem muss entsprechend mit einer Fomblin- oder Trockenpumpe für den Betrieb mit O2 ausgestattet sein.

Für den flexiblen Einsatz muss die Probenkammer mind. für Substrate von 100 mm x 50 mm ausgelegt sein und einen Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 350 oC abdecken.

Es wird beabsichtigt, ein Atomic Layer Deposition System zu erwerben. Bedingt durch die Verwendung durch mehrere Forschungsgruppen muss das System einen möglichst flexiblen Betrieb zulassen. Standardmäßig soll zunächst der abwechselnde/parallele Betrieb mit Precursoren zur thermischen Abscheidung von Al2O3, TiO2 und ZnO möglich sein, ohne Umbaumaßnahmen beim Wechsel der Precursoren.

Längerfristig ist zusätzlich die Abscheidung von SiO2 (sowie auch der Einsatz temperaturempfindlicher Substrate) geplant. Das System muss daher, wenn nicht direkt beinhaltet, für eine zukünftige Aufrüstung mit einer remote Plasma- oder Ozon-Quelle, sowie die zusätzlich benötigten Precursoren vorbereitet sein. Das Vakuumsystem muss entsprechend mit einer Fomblin- oder Trockenpumpe für den Betrieb mit O2 ausgestattet sein.

Um mögliche Einsatzbereiche nicht einzuschränken, muss die Probenkammer für Substrate von mind. 100 mm x 50 mm ausgelegt sein und mind. einen Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 350 oC abdecken.

Gefordert sind Angebote über auf dem Markt etablierte Atomic Layer Deposition Systeme mit mindestens 100 installierten Anlagen des angebotenen Typs oder von direkten Vorgängermodellen im Feld. Der Anbieter muss zudem über in Deutschland stationierte Service-Techniker verfügen. Die Anlage muss ein voll funktionsfähiges Stand-Alone System inklusive Steuerungs-PC und Software sein, Benchtop-Lösungen sind nicht erwünscht. Die Probenkammer muss für Prozesse von Raumtemperatur bis mindestens 350 oC und für Substrate mit bis zu mind. 100 mm Durchmesser und 50 mm Höhe ausgelegt sein.

Das ALD System muss über eine thermische Atomic Layer Deposition Funktionalität verfügen und mit mindestens 4 Liquid Source Lines für den dauerhaften Betrieb mit Al2O3, TiO2, ZnO Precursoren und H2O ausgelegt sein. Die entsprechenden Container müssen im Angebot enthalten sein. Die Art der ALD-Ventile ist anzugeben, es werden hochwertige, langlebige Ventile mit schnellen Schaltzeiten gefordert. Das ALD System muss zudem zur Abscheidung von SiO2 geeignet oder mindestens für eine Nachrüstung (Plasma-System oder Ozon-Generator, inklusive benötigter Gasleitungen) vorbereitet sein. Das Vakuumsystem muss dementsprechend aus Sicherheitsgründen mit einer Fomblin- oder einer Trockenpumpe ausgestattet sein. Rückströmungen in die Probenkammer müssen durch eine Foreline-Trap sicher ausgeschlossen werden.

Das Angebot muss inklusive Versand und Verpackung abgegeben werden und die Installation im Reinraum sowie die Abnahme enthalten. Als Abnahmekriterium ist eine Dickenvariation von < 1 % bei einem Al2O3 beschichteten 100 mm Wafer gefordert. Für die Inbetriebnahme fordern wir zusätzlich ein Nutzer-Training für mindestens zwei teilnehmende Personen über mindestens zwei Tage.

Die Angebote werden zudem über die oben genannten, zwingend notwendigen Eigenschaften hinaus nach den folgenden optionalen Kriterien bewertet:

System:

— Probenkammer für Temperaturbereich von 350 oC bis 500 oC.

— Vorbereitet für weitere LSL (liquid source lines).

— Precursor-Kabinett an Abluft anschließbar.

— Schleusensystem optional nachrüstbar oder bereits installiert.

Plasma-Option:

— Plasma-System bereits inklusive.

— Auswahlmöglichkeit zwischen direktem Plasma und remote Plasma.

— Gaslinien für N2, O2 und reaktives (evtl. toxisches) Gas.

— Gas-Alarm-System.

Ozon-Generator:

— Ozon-Generator optional nachrüstbar oder bereits installiert.

Substrate:

— Max. Probendurchmesser von > 100 mm prozessierbar.

— Max. Probenhöhe von > 50 mm prozessierbar.

Precursor:

— Vorab befüllte Precursor-Container oder Precursor-Materialien inklusive.

Vakuumsystem:

— Trockenpumpe bevorzugt.

— Exhaust-Filter / Dry Bed Absorber.

Installation:

— Trainingstage.

— Anzahl der Teilnehmer.

— Abnahmekriterien.

— Ersatzteile inklusive.