Es sollen zwei On-Wafer-Messplätze eingerichtet werden

Als Kernstück des Messplatzes soll das beantragte Großgerät einen hochleistungsfähigen vektoriellen Netzwerkanalysator enthalten. Durch diesen sollen die Streuparameter der integrierten Schaltungen erfasst werden. Dies gilt sowohl für lineare S-parameter als auch für frequenzumsetzende Parametern in Sende und Empfangspfaden. Dabei soll ein Frequenzbereich bis mindestens 170 GHz abgedeckt werden, um alle aktuellen Projekte bedienen zu können. Aufgrund der Anwendung des Messplatzes für aktive integrierte Schaltungen in Siliziumtechnologie ist des Weiteren eine Möglichkeit der Rauschzahlbestimmung in einem möglichst hohen Frequenzbereich, und eine korrespondierende Linearitätsbestimmung (Kompression oder Intermodulation) unabdingbar. Daher wird ein maximal flexibles Grundgerät angestrebt, dass diese Vielzahl von Messaufgaben abdeckt und erweiterte Optionen beinhaltet. Darüber hinaus, muss das Gerät einen echte voll-differentiellen Betrieb ermöglichen, um die heutzutage üblichen differentiellen Schaltungs-Interfaces bedienen zu können und eine Verfälschung der Performanceparameter durch unnötige bandlimitierende Baluns mit aufwändigem Deembedding zu vermeiden.

Mittels dieser Ausschreibung soll ein neuer Messplatz für die vektorielle Netzwerkanalyse integrierter Submillimeterwellen-Schaltungen inklusive Zubehöres beschafft werden. Das Setup soll den Anforderungen an eine On-Wafer Messtechnik aktiver integrierter Schaltungen genügen. Als Kernstück des Messplatzes soll das beantragte Großgerät einen hochleistungsfähigen vektoriellen Netzwerkanalysator enthalten. Durch diesen sollen die Streuparameter der integrierten Schaltungen erfasst werden. Dies gilt sowohl für lineare S-parameter als auch für frequenzumsetzende Parametern in Sende und Empfangspfaden. Dabei sollen die Submillimeterwellen-Frequenzbereiche von 220-330 GHz und 330-500 GHz durch die Kombination mit jeweils 2 Frequenzkonvertern abgedeckt werden, um alle aktuellen Projekte bedienen zu können.